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    ES-398 光刻膠去膠液

  • 包裝

    塑料桶

  • 規格

    25KG/桶 200KG/桶

  • 安全環(huán)保

  • 高性能

  • 銷(xiāo)售熱線(xiàn)

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    • 產(chǎn)品簡(jiǎn)介

      產(chǎn)品簡(jiǎn)介

    • 產(chǎn)品特性

      產(chǎn)品特性

    • 使用說(shuō)明

      使用說(shuō)明

    產(chǎn)品簡(jiǎn)介

    本品是由多種溶解能力極強的原輔材料精心配制而成的去膠液。具有優(yōu)良的去膠能力,廣泛用于半導體行業(yè)去除各種光刻膠,不含氨氮和磷,環(huán)保安全,易生物降解。


    產(chǎn)品特性

    a) 高效性:快速溶解光刻膠并使其脫落,效果好,無(wú)毛邊和犬齒,操作簡(jiǎn)單方便。

    b) 安全性:對半導體基材和鍍膜金屬無(wú)腐蝕。

    c) 環(huán)保性:不含氨氮和磷禁用物質(zhì),易降解,屬于環(huán)保型產(chǎn)品。 


    使用說(shuō)明

    使用方法

    根據實(shí)際工作條件,可采用浸泡清洗、超聲波清洗等使用方法,一般建議采用原液加溫至50℃~70℃對半導體光刻膠去膠,清洗時(shí)間可根據實(shí)際情況控制在5min~30min左右;去膠完成后用去離子水后超純水清洗,清洗的次數和時(shí)間由現場(chǎng)工藝要求來(lái)決定。


    注意事項

    a) 請勿在明火附近使用,勿長(cháng)時(shí)間接觸皮膚和大量吸入揮發(fā)氣體,如不慎濺入眼中,請及時(shí)用水沖洗。

    b) 超聲波清洗建議采用專(zhuān)用溶劑類(lèi)清洗劑的超聲波設備。


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